晶圆冷却装置及涂胶显影设备.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201920668583.3 (22)申请日 2019.05.10 (73)专利权人 德淮半导体有限公司 地址 223300 江苏省淮安市淮阴区长江东 路599号 (72)发明人 张海陆颜廷彪 (74)专利代理机构 上海思捷知识产权代理有限 公司 31295 代理人 王宏婧 (51)Int.Cl. H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 晶圆冷却装置及涂胶显影设备 (57)摘要 本实用新型提供一种晶圆冷却装置及涂胶 显影设备, 所述晶圆冷却装置包括: 冷却盘。

2、, 用于 承载晶圆; 均流板, 设置于所述冷却盘的下方, 且 均流板上设置有第一路槽; 工作流体, 设置于所 述第一路槽内。 本实用新型提供的晶圆冷却装置 降低了冷却管破裂的几率, 减少设备能耗, 节约 生产成本, 而且避免了在均流板升降过程中冷却 管位置的偏移, 减少述冷却管破损几率的同时, 降低了晶圆重工的几率, 提高了产品良率。 权利要求书1页 说明书6页 附图6页 CN 210668283 U 2020.06.02 CN 210668283 U 1.一种晶圆冷却装置, 其特征在于, 包括: 冷却盘, 用于承载晶圆; 均流板, 设置于所述冷却盘的下方, 且所述均流板上设置有用于承载工作流。

3、体的第一 路槽; 冷却管和循环驱动单元, 其中, 所述冷却管包括: 设置在所述第一路槽内的第一冷却管 和连接所述循环驱动设备与所述第一冷却管的第二冷却管。 2.根据权利要求1所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述工作流体设置在所述冷却管 内, 所述循环驱动单元用于提供所述工作流体并驱动所述工作流体在所述冷却管内循环流 动。 3.根据权利要求1所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述晶圆冷却装置还包括: 升降 支撑单元, 用于支撑所述均流板并使所述均流板靠近或远离所述冷却盘。 4.根据权利要求3所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述升降支撑单元包括: 支撑杆 和连接所述支撑杆的马达。 5.根。

4、据权利要求4所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述支撑杆的数量大于或等于三 个。 6.根据权利要求4所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述升降支撑单元还包括: 固定 结构, 所述固定结构设置在所述支撑杆与所述均流板的接触位置, 用于固定所述第一冷却 管。 7.根据权利要求1所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述冷却盘异于晶圆的一面设置 有第二路槽, 所述第二路槽与所述第一路槽的排布走向相同。 8.根据权利要求7所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述第一路槽和所述第二路槽的 横截面分别为一圆形的上下半圆。 9.根据权利要求8所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述第一冷却管的直径小于等于。

5、 所述圆形的直径。 10.根据权利要求1-9任一项所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述均流板与所述冷 却盘的形状相同。 11.根据权利要求1-9任一项所述的晶圆冷却装置, 其特征在于, 所述工作流体包括水、 乙二醇或者水和乙二醇的混合物。 12.一种涂胶显影设备, 其特征在于, 包括如权利要求1-11中任一项所述的晶圆冷却装 置。 权利要求书 1/1 页 2 CN 210668283 U 2 晶圆冷却装置及涂胶显影设备 技术领域 0001 本实用新型涉及半导体制造技术领域, 尤其涉及一种晶圆冷却装置及涂胶显影设 备。 背景技术 0002 目前, 在半导体器件的制造中, 通常利用涂胶显影设备。

6、(Automatic clean track, ACT)进行涂覆光刻胶和显影。 通常ACT设备需要具有清洗、 涂胶、 干燥、 烘烤、 曝光和显影等 功能, 现有的涂胶显影设备通常包括用于实现上述多个功能的多个单元, 例如: 预烘烤单元 用于实现烘烤功能, 曝光单元用于实现曝光功能。 0003 在现阶段的涂胶显影设备中, 烘烤单元都是冷热板一体, 晶圆在加热盘上烘烤完, 冷却盘(也称为冷却臂, Cooling Arm)进入加热位置并转移晶圆至冷却位置, 然后在冷却位 置通过冷却盘对晶圆进行冷却。 图1A和图1B为一冷却盘背面的结构示意图, 如图1A和图1B 所示, 通过在冷却盘10背面10b设置。

7、路槽11(如图1A所示), 并在路槽11中接入冷却管12, 并 通过辅机(循环驱动设备)14向冷却管12中通入工作流体(冷却水)对晶圆进行冷却降温(如 图2所示)。 其中, 连接管13连接冷却管12与辅机14在冷却盘10长期转移晶圆的过程中会存 在以下隐患: 0004 1、 连接管13在长期长距离(5060cm)的来回运动中会破损, 由于工作流体是由辅 机14(低处)通过压力输送到冷却盘10背面10b(高处)的, 所以其一旦破损, 工作流体受压力 作用会喷出, 造成设备污染, 大量晶圆需要重工。 0005 2、 由于烘烤单元周围设置有控制阀、 电路板以及加热带等, 一旦工作流体喷出到 达这些区。

8、域, 将会造成原件损坏, 甚至可能引发火灾, 存在安全隐患。 0006 3、 冷却管12在转移晶圆过程中会进出加热盘, 工作流体自身温度也会由于加热盘 高温的影响而升高, 造成辅机14负荷增大, 增加生产成本。 实用新型内容 0007 本实用新型的主要目的在于提供一种晶圆冷却装置。 0008 为达到上述目的, 本实用新型采用以下技术方案: 0009 一种晶圆冷却装置, 包括; 0010 冷却盘, 用于承载晶圆; 0011 均流板, 设置于所述冷却盘的下方, 且所述均流板上设置有用于承载工作流体的 第一路槽。 0012 可选的, 所述晶圆冷却装置还包括: 冷却管和循环驱动单元, 中, 所述冷却管。

9、包括: 设置在所述第一路槽内的第一冷却管和连接所述循环驱动设备与所述第一冷却管的第二 冷却管。 0013 可选的, 所述晶圆冷却装置还包括: 所述工作流体设置在所述冷却管内, 所述循环 驱动单元用于提供所述工作流体并驱动所述工作流体在所述冷却管内循环流动。 说明书 1/6 页 3 CN 210668283 U 3 0014 可选的, 所述晶圆冷却装置还包括: 升降支撑单元, 用于支撑所述均流板并使所述 均流板靠近或远离所述冷却盘。 0015 可选的, 所述升降支撑单元包括: 支撑杆和连接所述支撑杆的马达。 0016 可选的, 所述所支撑杆的数量大于或等于三个。 0017 可选的, 所述升降支撑。

10、单元还包括: 固定结构, 所述固定结构设置在所述支撑杆与 所述均流板的接触位置, 用于固定所述第一冷却管。 0018 可选的, 所述冷却盘异于晶圆的一面设置有第二路槽, 所述第二路槽与所述第一 路槽的排布走向相同。 0019 可选的, 所述第一路槽和所述第二路槽的横截面分别为一圆形的上下半圆。 0020 可选的, 所述第一冷却管的直径小于等于所述圆形的直径。 0021 可选的, 所述均流板与所述冷却盘的形状相同。 0022 可选的, 所述工作流体包括水, 乙二醇或者水和乙二醇的混合物。 0023 本实用新型还提供一种涂胶显影设备, 包括如上任一项所述的晶圆冷却装置。 0024 由于采用了以上技。

11、术方案, 本实用新型具有以下有益效果: 0025 1、 所述冷却盘转移晶圆至冷却位置后, 将载有工作流体的均流板设置在所述冷却 盘的下方对晶圆进行冷却操作, 避免工作流体进入晶圆加热位置, 进而避免了工作流体温 度频繁的变化, 减少设备能耗, 降低生产成本。 0026 2、 连接所述均流板内第一路槽的第一冷却管和所述循环驱动单元的第二冷却管 仅需要在所述冷却盘和所述均流板之间垂直运动, 不需要在晶圆加热位置和冷却位置之间 水平运动, 减少了所述第二冷却管的移动距离和弯曲频率, 进而降低了所述第二冷却管破 裂的几率, 增加了第二冷却管的使用寿命, 节约生产成本。 0027 3、 所述升降支撑单元。

12、在支撑所述均流板升降的同时, 对所述第一冷却水管进行固 定, 有效避免了在所述均流板升降过程中所述第一冷却水管位置的偏移, 减少所述第一冷 却管破损几率的同时, 降低了晶圆重工的几率, 提高了产品良率。 附图说明 0028 图1A为一冷却盘背面的结构示意图; 0029 图1B为一冷却盘背面通入工作流体后的结构示意图; 0030 图2为实施例一中冷却盘背面的结构示意图; 0031 图3A和图3B为实施例一中均流板正面的结构示意图; 0032 图4为实施例一中均流板正面通入工作流体后的结构示意图; 0033 图5为实施例二中冷却盘背面的结构示意图; 0034 图6A和图6B为实施例二中均流板正面的。

13、结构示意图; 0035 图7为实施例二中均流板正面通入工作流体后的结构示意图; 0036 图8为图7中晶圆冷却装置沿OO 的截面示意图。 0037 附图标记: 0038 10-冷却盘; 10b-冷却盘背面; 11-路槽; 12-冷却管; 13-连接管; 14-辅机; 0039 100-晶圆; 200a-冷却盘正面; 200b-冷却盘背面; 200-冷却盘; 210-第二路槽; 220- 第一狭缝; 300-均流板; 300a-均流板正面; 300b-均流板背面; 310-第一路槽; 320-第二狭 说明书 2/6 页 4 CN 210668283 U 4 缝; 311-入口端; 312-出口端。

14、; 400-冷却管; 410-第一冷却管; 420-第二冷却管; 401-工作流 体; 500-循环驱动单元。 具体实施方式 0040 为使本实用新型的内容更加清楚易懂, 以下结合说明书附图, 对本本实用新型做 进一步说明。 当然本实用新型并不局限于该具体实施例, 本领域的技术人员所熟知的一般 替换也涵盖在本实用新型的保护范围内。 0041 其次, 本实用新型利用示意图进行了详细的表述, 在详述本实用新型实例时, 为了 便于说明, 示意图不依照一般比例局部放大, 不应对此作为本实用新型的限定。 0042 以下结合附图和具体实施例对本实用新型的晶圆冷却装置及涂胶显影设备作进 一步详细说明。 根据。

15、下面的说明和附图, 本实用新型的优点和特征将更清楚, 然而, 需说明 的是, 本实用新型技术方案的构思可按照多种不同的形式实施, 并不局限于在此阐述的特 定实施例。 附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例, 仅用以方便、 明晰地辅助说 明本实用新型实施例的目的。 0043 在说明书和权利要求书中的术语 “第一”“第二” 等用于在类似要素之间进行区分, 且未必是用于描述特定次序或时间顺序。 要理解, 在适当情况下, 如此使用的这些术语可替 换, 例如可使得本文所述的本实用新型实施例能够以不同于本文所述的或所示的其他顺序 来操作。 类似的, 如果本文所述的方法包括一系列步骤, 且本文所呈现的。

16、这些步骤的顺序并 非必须是可执行这些步骤的唯一顺序, 且一些所述的步骤可被省略和/或一些本文未描述 的其他步骤可被添加到该方法。 若某附图中的构件与其他附图中的构件相同, 虽然在所有 附图中都可轻易辨认出这些构件, 但为了使附图的说明更为清楚, 本说明书不会将所有相 同构件的标号标于每一图中。 0044 实施例一 0045 请参考图2、 图3A、 图3B、 图4和图8, 本实施例提供一种晶圆冷却装置, 包括: 冷却盘 200, 用于承载晶圆100; 均流板300, 设置于所述冷却盘200的下方, 且所述均流板300上设置 有第一路槽310; 工作流体401, 设置于所述第一路槽310内。 00。

17、46 如图2所示, 所述冷却盘200的正面用于承载晶圆100, 背面200b用于与所述均流板 300接触, 所述冷却盘200的形状类似子弹头, 在涂胶显影设备中, 烘烤单元是冷热板一体, 晶圆100在加热盘上烘烤完, 热盘上的顶针(Pin)将加热后的晶圆100顶起, 冷却盘200移动 到所述晶圆100的下方, 顶针收起, 晶圆100置于所述冷却盘200上, 然后, 所述冷却盘200转 移至冷却位置继续后续晶圆100的冷却工作。 由于在转移晶圆100的过程中, 所述冷却盘200 要穿过加热盘上支撑晶圆100的顶针, 故在冷却盘200靠近加热盘的一侧设置有在厚度方向 贯穿所述冷却盘200的第一狭缝。

18、220, 以便所述冷却盘200移动过程中顶针穿过第一狭缝 220, 使所述冷却盘200与晶圆100的位置在竖直(垂直于晶圆)方向上重合, 便于晶圆100的 转移。 0047 如图3A和图3B所示, 所述均流板300的正面300a设置有第一路槽310, 用于承载工 作流体401, 所述均流板300的正面300a用于与所述冷却盘200的背面200b接触, 以使所述工 作流体401冷却所述冷却盘200上的晶圆100。 本实施例中, 所述均流板300的形状与所述冷 却盘200的形状相同。 在本实用新型其他实施例中, 所述均流板300的形状与所述冷却盘200 说明书 3/6 页 5 CN 2106682。

19、83 U 5 的形状也可以不同, 只需保证所述第一路槽310与所述冷却盘200载有晶圆100的区域相对。 另外, 所述均流板300内可以设置在竖直方向贯穿所述均流板300的第二狭缝320, 如图3A所 示, 以与所述冷却盘200中的第一狭缝220相对应, 作为定位标志, 便于所述均流板300与所 述均流板300接触。 当然, 由于冷却管400设置在所述均流板300上, 所述均流板300不随所述 冷却盘200移动(进入晶圆加热位置), 故所述均流板300也可以不作狭缝处理, 如图3B所示。 0048 如图4所示, 所述第一路槽310可以是一封闭的储存所述工作流体401的凹槽或管 槽, 所述第一路。

20、槽310的排布走向可以采用类似 “E” 字形或 “回” 字形等。 所述工作流体401包 括水, 乙二醇或者水和乙二醇的混合物, 在本实用新型其他实施例中所述工作流体401可以 采用其他冷却介质本实施例并不做限定。 所述均流板300可以固定在冷却位置上, 所述冷却 盘200转移晶圆100后直接移动至所述均流板300的上方。 所述均流板300也可以通过一升降 支撑单元靠近或远离所述冷却盘200, 示例性的, 所述升降支撑单元可以为由步进马达控制 的支撑杆。 所述支撑杆的数量大于等于3, 较佳的, 在所述均流板300的背面300b设置有A、 B、 C三个支撑点, 所述支撑杆在A、 B、 C三个支撑点。

21、位置处对所述均流板300进行支撑, 并由步进 马达控制所述支撑杆伸展和收缩, 使所述均流板300靠近或远离所述冷却盘200, 进而使使 所述第一路槽310内的工作流体401接近或远离所述晶圆100。 0049 具体的, 待所述冷却盘200转移晶圆100至冷却位置后, 所述升降支撑单元伸展, 支 撑所述均流板300靠近所述冷却盘200, 进而对所述冷却盘200上的晶圆100进行冷却; 当时 晶圆100冷却至目标温度后, 所述升降支撑单元收缩, 所述均流板300远离所述冷却盘200, 所述冷却盘200进行下一晶圆的转移, 如此循环。 0050 实施例二 0051 请参考图5、 图6A、 图6B、 。

22、图7和图8, 本实施例提供一种晶圆冷却装置, 包括: 冷却盘 200, 用于承载晶圆100; 均流板300, 设置于所述冷却盘200的下方, 且所述均流板300上设置 有第一路槽310; 工作流体401, 设置于所述第一路槽310内。 其中所述第一路槽310为开放式 的凹槽或管槽, 所述第一路槽310的排布走向可以采用类似 “E” 字形或 “回” 字形等, 包括进 口端311和出口312端。 0052 所述晶圆冷却装置还包括: 冷却管400和循环驱动单元500, 所述工作流体401设置 在所述冷却管400内, 所述循环驱动单元用于提供所述工作流,401并驱动所述工作流体401 在所述冷却管40。

23、0内循环流动。 其中, 所述冷却管400包括: 设置在所述第一路槽310内的第 一冷却管410和连接所述循环驱动设备500与所述第一冷却管410的第二冷却管420。 例如所 述循环驱动单元500可为机械泵和制冷机的结合, 通过第二冷却管420分别在所述进口端 311和所述出口端312连接所述第一冷却管410, 借此可驱动工作流体401形成一回路, 并通 过制冷机维持所述回路中工作流体的温度在制定的范围内。 其中, 所述工作流体401包括 水, 乙二醇或者水和乙二醇的混合物。 所述冷却管400可以是一条完整的管路, 即所述第一 冷却管410和第二冷却管420是一条完整的管路, 所述第一冷却管41。

24、0和第二冷却管420也可 以是由若干管路连接而成。 0053 如图5和图8所示, 所述冷却盘200的正面200a用于承载晶圆100, 背面200b用于与 所述均流板300接触, 所述冷却盘200的形状类似子弹头, 在涂胶显影设备中, 烘烤单元是冷 热板一体, 晶圆100在加热盘上烘烤完, 热盘上的顶针(Pin)将加热后的晶圆100顶起, 冷却 盘200移动到所述晶圆100的下方, 顶针收起, 晶圆100置于所述冷却盘200上, 然后, 所述冷 说明书 4/6 页 6 CN 210668283 U 6 却盘200转移至冷却位置继续后续晶圆100的冷却工作。 由于在转移晶圆100的过程中, 所述 。

25、冷却盘200要穿过加热盘上支撑晶圆100的顶针, 故在冷却盘200靠近加热盘的一侧设置有 在厚度方向贯穿所述冷却盘200的第一狭缝220, 以便所述冷却盘200移动过程中顶针穿过 第一狭缝220, 使所述冷却盘200与晶圆100的位置在竖直(垂直于晶圆)方向上重合, 便于晶 圆100的转移。 0054 如图6A、 图6B和图8所示, 所述均流板300的正面300a设置有第一路槽310, 用于承 载工作流体401, 所述均流板300的正面300a用于与所述冷却盘200的背面200b接触, 以使所 述工作流体401冷却所述冷却盘200上的晶圆100。 本实施例中, 所述均流板300的形状与所 述冷。

26、却盘200的形状相同。 在本实用新型其他实施例中, 所述均流板300的形状与所述冷却 盘200的形状也可以不同, 只需保证所述第一路槽310与所述冷却盘200载有晶圆100的区域 相对。 另外, 所述均流板300内可以设置在竖直方向贯穿所述均流板300的第二狭缝320, 如 图6A所示以与所述冷却盘200中的第一狭缝220相对应, 作为定位标志, 便于所述均流板300 与所述均流板300接触。 当然, 由于冷却管400设置在所述均流板300上, 所述均流板300不随 所述冷却盘200移动(进入晶圆加热位置), 故所述均流板300也可以不作狭缝处理, 如图6B 所示。 0055 所述冷却盘200。

27、的背面200b设置有第二路槽210, 所述第二路槽210与所述第一路 槽310的排布走向相同。 所述第一路槽310和所述第二路槽210的横截面分别为一圆形的上 下半圆, 所述冷却管400的直径小于等于所述圆形的直径, 如图8所示。 0056 所述晶圆冷却装置还包括升降支撑单元(图中未示出), 所述升降支撑单元用于支 撑所述均流板300并使所述均流板300靠近或远离所述冷却盘200。 示例性的, 所述升降支撑 单元可以为由步进马达控制的支撑杆。 所述支撑杆的数量大于等于3, 较佳的, 在所述均流 板300的背面300b设置有A、 B、 C三个支撑点, 所述支撑杆在A、 B、 C三个支撑点位置处对。

28、所述 均流板300进行支撑, 并由步进马达控制所述支撑杆伸展和收缩, 使所述均流板300靠近或 远离所述冷却盘200, 进而使使所述第一路槽310内的工作流体401接近或远离所述晶圆 100。 优选的, 可以在所述支撑点位置处设置固定结构(例如固定栓), 对所述第一路槽310内 的第一冷却管410进行固定, 防止在在所述均流板300上下移动过程中, 所述第一冷却管410 的偏离。 0057 参考图7和图8, 当所述冷却盘200转移晶圆100至冷却位置时, 所述支撑杆伸展支 撑所述均流板300靠近所述冷却盘200, 并使所述均流板300的上表面300a与所述冷却盘200 的下表面200b接触, 。

29、进而使所述第一路槽310与所述第二路槽210相对, 所述冷却管400(第 一冷却管410)位于所述第一路槽310与所述第二路槽210围成的轨道内, 所述循环驱动单元 500向所述冷却管400内通入工作流体401, 并驱动所述工作流体401在所述冷却管400内循 环, 以达到冷却所述晶圆100的目的。 当晶圆100冷却至目标温度后并所述步进马达控制所 述支撑杆收缩, 所述循环驱动单元500减缓或停止驱动所述工作流体循环, 所述均流板300 远离所述冷却盘200。 待所述冷却盘200内移入下一个待冷却的晶圆, 所述支撑杆伸展支撑 所述均流板300靠近所述冷却盘200.如此循环, 晶圆冷却装置依次对。

30、晶圆进行冷却操 作。 0058 本实施例中, 所述第二冷却管420为一连接管, 连接所述循环驱动单元500和位于 所述第一路槽310内的第一冷却管, 且由于所述均流板300仅在冷却位置对晶圆100进行冷 说明书 5/6 页 7 CN 210668283 U 7 却操作, 并不需要同所述冷却盘200移入加热盘上方, 故所述第二冷却管420仅需要在所述 冷却盘200和所述均流板300之间垂直运动, 不需要在晶圆加热位置和冷却位置之间水平运 动, 故所述第二冷却管420的长度大于等于所述循环驱动单元500与所述冷却盘200之间的 距离。 0059 相较于现有技术, 所述第二冷却管420的移动距离有原。

31、来的50cm60cm减少到4cm 5cm, 且所述第二冷却管420省去了水平运动, 仅做垂直运动, 减少所述第二冷却管420弯 曲的频率, 降低了所述第二冷却管420破裂的几率, 增加了冷却管400的使用寿命, 节约生产 成本。 而且, 所述冷却管400不用进入晶圆加热位置, 避免了工作流体401温度频繁的变化, 降低了循环驱动单元500的工作频率, 降低设备能耗, 进一步降低了生产成本。 0060 另外, 所述升降支撑单元在支撑所述均流板300升降的同时, 对所述第一冷却水管 410进行固定, 有效避免了在所述均流板300升降过程中所述第一冷却水管410位置的偏移, 减少冷却管400破损的几。

32、率, 进而降低晶圆重工的几率, 提高了产品良率。 0061 本实用新型还提供一种涂胶显影设备, 包括以上所述的晶圆冷却装置。 0062 需要说明的是, 本说明书中的各个实施例均采用相关的方式描述, 各个实施例之 间相同相似的部分互相参见即可, 每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。 尤其, 对于结构实施例而言, 由于其基本相似于方法实施例, 所以描述的比较简单, 相关之 处参见方法实施例的部分说明即可。 0063 上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述, 并非对本实用新型范围的任何限 定, 本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、 修饰, 均属于权利要 求书的保护范围。 说明书 6/6 页 8 CN 210668283 U 8 图1A 图1B 说明书附图 1/6 页 9 CN 210668283 U 9 图2 图3A 说明书附图 2/6 页 10 CN 210668283 U 10 图3B 图4 说明书附图 3/6 页 11 CN 210668283 U 11 图5 图6A 说明书附图 4/6 页 12 CN 210668283 U 12 图6B 图7 说明书附图 5/6 页 13 CN 210668283 U 13 图8 说明书附图 6/6 页 14 CN 210668283 U 14 。

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内容关键字: 冷却 装置 涂胶 显影 设备
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